[发明专利]投射系统、投影仪和投射位置检测方法有效

专利信息
申请号: 201710028243.X 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN106993172B 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 古井志纪 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H04N9/31 分类号: H04N9/31
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供用少的配置检测用图像检测投影仪所投射的图像的配置状态的投射系统、投影仪和投射位置检测方法。多个投影仪被分类为由N台投影仪组成的多个投影仪组,N是按每一投影仪组规定的1以上的整数,控制装置以对应每一投影仪组而不同的时机使属于投影仪组的N台投影仪投射互不相同的N个配置检测用图像,并使未投射配置检测用图像的投影仪用摄像部进行拍摄,从而基于该拍摄结果检测多个投影仪所投射的图像的配置状态。
搜索关键词: 投射 系统 投影仪 位置 检测 方法
【主权项】:
一种投射系统,其特征在于,具备多个投影仪和控制装置,所述多个投影仪使图像投射并排列于投射面,所述多个投影仪各自具备摄像部,所述摄像部在其它投影仪于与自身的投影仪的投射范围相邻的位置上进行了投射时,能够拍摄所述其它投影仪的投射范围的至少一部分,所述多个投影仪被分类为由N台投影仪组成的多个投影仪组,N是按每一所述投影仪组规定的1以上的整数,所述控制装置在每一所述投影仪组均互不相同的时机使属于所述投影仪组的所述N台投影仪投射互不相同的N个配置检测用图像,并使未投射所述配置检测用图像的投影仪用所述摄像部进行拍摄,从而基于该拍摄的结果检测所述多个投影仪所投射的图像的配置状态。
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