[发明专利]用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料

摘要

本发明公开了用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料，通过在对可见光敏感的CdS、CdSe混合物中掺入三元CdSeS量子点，利用三元CdSeS量子点的量子限域效应产生光谱蓝移，把光谱响应谱带扩展到近紫外光光谱，所制备光敏电阻对波长在280 nm到670 nm之间的光具有较高的灵敏度，具有光谱响应谱带宽的优点。

主权项

用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由紫外可见光响应光敏溶液喷涂在光敏电阻的陶瓷基体的表面形成，所述紫外可见光响应光敏溶液包括混合物和离子水，所述混合物由以下重量百分比的各组分组成：CdSeS 35%‑55%，CdSe 25%‑45%，CdCl2 9%‑29%，余量为CuCl2；将混合物溶解在离子水中得到紫外可见光响应光敏溶液，所述光敏溶液中混合物与离子水的质量百分比为，混合物20%‑40%，离子水60%‑80%。