[发明专利]用于沉积钝化膜的设备和用于沉积钝化膜的方法在审
申请号: | 201710032931.3 | 申请日: | 2017-01-17 |
公开(公告)号: | CN107043924A | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
发明(设计)人: | 李宰承;尹哲;韩宰贤 | 申请(专利权)人: | AP系统股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/40;C23C16/34 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人: | 杨文娟,臧建明 |
地址: | 韩国京畿道华城市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于沉积钝化膜的设备和一种用于沉积钝化膜的方法,其在单个腔室中沉积层压有多个材料层的钝化膜。所述用于沉积钝化膜的设备,包含衬底支撑件,衬底通过衬底支撑件支撑;线性沉积模块部件,其包括与第一轴方向平行安置的线性沉积源,且线性沉积模块部件横越衬底并且在其上沉积钝化膜;气体供应部件,其向线性沉积模块部件选择性并且交替地供应第一沉积气体和第二沉积气体;驱动部件,其在与第一轴方向交叉的第二轴方向移动衬底支撑件或线性沉积模块部件,其中可通过层压由第一沉积气体沉积的第一材料层和由第二沉积气体沉积的第二材料层形成钝化膜。 | ||
搜索关键词: | 用于 沉积 钝化 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于沉积钝化膜的设备,其特征在于,包括:衬底支撑件,衬底通过所述衬底支撑件支撑;线性沉积模块部件,其包括与第一轴方向平行安置的线性沉积源,且所述线性沉积模块部件横越所述衬底并且在所述衬底上沉积所述钝化膜;气体供应部件,其向所述线性沉积模块部件选择性并且交替地供应第一沉积气体和第二沉积气体;驱动部件,其在与所述第一轴方向交叉的第二轴方向移动所述衬底支撑件或所述线性沉积模块部件,其中通过层压由所述第一沉积气体沉积的第一材料层和由所述第二沉积气体沉积的第二材料层形成所述钝化膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的