[发明专利]一种制备亲疏图案的光刻方法有效

专利信息
申请号: 201710044839.9 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN107065444B 公开(公告)日: 2019-03-05
发明(设计)人: 朱艳青;徐刚;史继富 申请(专利权)人: 中国科学院广州能源研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 广州科粤专利商标代理有限公司 44001 代理人: 蒋欢妹;莫瑶江
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种制备亲疏图案的光刻方法,包括以下步骤:首先在基底上涂覆或喷涂带有图案的图案连接层,其次涂覆、喷涂或旋涂表面涂层,最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射,得到亲疏图案;所述的基底的材料选自玻璃、金属、合金、不锈钢、墙体、纸张、棉织物中的任一种;所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷;所述表面涂层为尺寸为10nm~10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒。本发明不需要光掩模,制备方法简单,扩大了光刻技术的使用范围,并且节省了能源,并可以制备任意尺寸的图案,实现低表面能物质的自供应,从而延长了其使用寿命,具有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 制备 亲疏 图案 光刻 方法
【主权项】:
1.一种制备亲疏图案的光刻方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:首先在基底上涂覆一层带有图案的图案连接层,其次涂覆一层表面涂层,最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射,得到亲疏图案;所述的基底的材料选自玻璃、金属、墙体、纸张、棉织物中的任一种;所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷;所述表面涂层为尺寸为10nm~10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒;所述的低表面能物质为氟硅烷或硅氧烷。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院广州能源研究所,未经中国科学院广州能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710044839.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top