[发明专利]一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法在审
| 申请号： | 201710044987.0 | 申请日： | 2017-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN106702332A | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 郭巧琴;李建平;郭永春;杨忠;高培虎;夏峰 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/02;C22C32/00;C22C21/00;F16C33/12;F16C33/14 |
| 代理公司： | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙)61223 | 代理人： | 潘宏伟 |
| 地址： | 710021 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法，涉及滑动轴承技术领域。该方法包括将轴瓦基体安装到磁控溅射设备内，并在轴瓦基体和靶材之间建立水平正交电磁场；将磁控溅射设备内部进行抽真空；转动轴瓦基体进行辉光清洗；辉光清洗后进行弧光清洗，弧光清洗时采用镍靶；对轴瓦基体的内圆面使用电弧离子镀制备镍栅层；对轴瓦基体同时使用电弧离子镀和磁控溅射离子镀进行处理，在形成的镍栅层上复合镀膜，形成轴瓦减摩镀层，其中，采用的靶材为铝铜合金靶、锡靶和碳靶。本发明利用电弧离子镀和磁控溅射离子镀技术协同制备轴瓦减摩镀层，实现了大厚度轴瓦镀层的高速沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 技术 协同 制备 轴瓦 镀层 方法 | ||
【主权项】：
一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：将轴瓦基体安装到磁控溅射设备内，并在轴瓦基体和靶材之间建立水平正交电磁场；步骤2：将磁控溅射设备内部进行抽真空，使真空度达到10‑3Pa以下的设定值；步骤3：当磁控溅射设备内部真空度达到设定值后，向水平正交电磁场中通入惰性气体，并转动轴瓦基体进行辉光清洗；步骤4：辉光清洗后进行弧光清洗，弧光清洗时采用镍靶；步骤5：对轴瓦基体的内圆面使用电弧离子镀制备镍栅层，制备镍栅层时使用镍靶，利用水平正交电磁场对镍靶进行轰击，镍靶离子被击出后沉积到轴瓦基体的内圆面，形成一层镍栅层；步骤6：对形成镍栅层的轴瓦基体，同时使用电弧离子镀和磁控溅射离子镀进行处理，在镍栅层上进行复合镀膜，形成轴瓦减摩镀层，其中，电弧离子镀采用的靶材为铝铜合金靶，磁控溅射离子镀采用的靶材为锡靶和碳靶；步骤7：将形成轴瓦减摩镀层的轴瓦基体随炉冷却至温度低于180℃后，打开磁控溅射设备并取出带有轴瓦减摩镀层的轴瓦基体。
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