[发明专利]一种等离子刻蚀设备

摘要

本发明公开了一种等离子刻蚀设备，包括反应腔室，反应腔室内设置相对平行放置的正电极板和负电极板，反应腔室左侧设置有气体入口，反应腔室右下侧处设置有气体出口和掩膜版；所述负电极板设置于反应腔室的上方，所述负电极板和掩膜版相互连接，掩膜版位于负电极板的下方，掩膜版的版面朝下；所述正电极板设置于反应腔室的下方，与掩膜版相对。本发明掩模版的表面朝下，颗粒在处理过程中不会落下，避免了图形未被刻蚀出或图形未被完全刻蚀的发生。

主权项

1.一种等离子刻蚀设备，包括反应腔室（1），反应腔室内设置相对平行放置的正电极板（2）和负电极板（3），反应腔室左侧设置有气体入口（4），反应腔室右下侧处设置有气体出口（5）；其特征在于：所述负电极板（3）设置于反应腔室（1）的上方，所述负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）相互连接，待 刻蚀的掩膜版（6）位于负电极板（3）的下方，待 刻蚀的掩膜版（6）的版面朝下；所述正电极板（2）设置于反应腔室（1）的下方并与待 刻蚀的掩膜版（6）相对，所述负电极板（3）上设置有气孔（8），真空通过负电极板（3）上的气孔（8）把负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）吸附连接在一起，或者，负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）通过机械连接方式连接在一起。