[发明专利]新型化合物及其制造方法、产酸剂、抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法在审
| 申请号： | 201710046671.5 | 申请日： | 2008-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN106986792A | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 羽田英夫;内海义之;石塚启太;松泽贤介;金子文武;大下京子;清水宏明;吉井靖博 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C303/32 | 分类号： | C07C303/32;C07C309/17;C07C381/12;C07D493/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 葛凡 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及含有在酸的作用下对碱显影液的溶解性发生改变的基材成分(A)和通过曝光来产生酸的产酸剂成分(B)的抗蚀剂组合物，其特征在于，所述产酸剂成分(B)含有由下述通式(b1－1)表示的化合物形成的产酸剂(B1)，式中，RX是可以具有取代基(但氮原子除外)的烃基；Q2和Q3分别独立地为单键或2价的连接基团；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；Z+是有机阳离子(但下述通式(w‑1)表示的离子除外)。 | ||
| 搜索关键词： | 新型 化合物 及其 制造 方法 产酸剂 抗蚀剂 组合 以及 图案 形成 | ||
【主权项】：
一种化合物，其由下述通式(b0‑1‑12)表示，式中，Rc为包含选自‑O‑、‑C(＝O)‑O‑、‑S‑、‑S(＝O)2‑及‑S(＝O)2‑O‑中的至少一种的碳原子数为5～20的烃基；Q4为单键或亚烷基；n为1；Y1是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；R3～R6分别独立地为氢原子或可以具有取代基的烃基，R3～R6中的至少1个为所述烃基，R3～R6中的至少2个可以分别键合成环。
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