[发明专利]Ni‑W‑P‑纳米SiO2化学复合镀层的制备方法在审
申请号: | 201710049147.3 | 申请日: | 2017-01-21 |
公开(公告)号: | CN106835089A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 姜世杭 | 申请(专利权)人: | 扬州大学 |
主分类号: | C23C18/50 | 分类号: | C23C18/50 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心32203 | 代理人: | 吴茂杰 |
地址: | 226009 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种Ni‑W‑P‑纳米SiO2化学复合镀层的制备方法,包括如下步骤(10)硅溶胶制备将硅粉加入蒸馏水中,活化,加入氢氧化钠溶液,强烈搅拌,反应充分后冷却,静置后减压抽滤,得到硅溶胶;(20)化学镀液配制配制化学镀液;(30)复合镀液混合将化学镀液加入硅溶胶中,并加水配至所需的量,用氨水调节混合溶液的pH值至弱碱性,再升温至30℃~35℃。(40)镀层生成将表面打磨、除油、除锈、清洗及活化后的基体材料,置于复合镀液中施镀,得到Ni‑W‑P‑纳米SiO2复合镀层。本发明制备的化学复合镀层,纳米颗粒分散较均匀、镀层硬度高。 | ||
搜索关键词: | ni 纳米 sio2 化学 复合 镀层 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种Ni‑W‑P‑纳米SiO2化学复合镀层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(10)硅溶胶制备:将硅粉加入蒸馏水中,活化,加入氢氧化钠溶液,强烈搅拌,反应充分后,在搅拌的条件下冷却到50℃以下,静置后减压抽滤,得到硅溶胶;(20)化学镀液配制:按如下配比配制化学镀液,硫酸镍23g/L、钨酸钠15g/L、次亚磷酸钠25g/L、柠檬酸钠75g/L、乳酸50ml/L、氯化铵30g/L,溶剂为蒸馏水;(30)复合镀液混合:将化学镀液加入硅溶胶中,并加水配至所需的量,用氨水调节混合溶液的pH值至弱碱性,再升温至30℃~35℃。(40)镀层生成:将表面打磨、除油、除锈、清洗及活化后的基体材料,置于复合镀液中施镀,得到Ni‑W‑P‑纳米SiO2复合镀层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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