[发明专利]日冕仪外掩体位置测量系统及位置测量方法有效

专利信息
申请号: 201710049608.7 申请日: 2017-01-23
公开(公告)号: CN106813575B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 刘维新;袁震宇;夏利东;孙明哲 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00;G01B11/26
代理公司: 青岛联信知识产权代理事务所(普通合伙) 37227 代理人: 张媛媛;王中云
地址: 264209 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 日冕仪外掩体位置测量系统及外掩体位置测量方法,通过配置激光回馈干涉系统,调整参考光和测量光,使其分别入射到外掩体的支撑杆和盘面上,被其亚光黑表面直接反射后原路返回形成激光回馈进行测量。根据测得的测量参考光路和测量光路各自的长度变化,结合两光路的结构和参数,可计算日冕仪外掩体的位移及角度变化。借助该装置和方法,可调整外掩体到理想中心位置,并研究在环境温度或振动测试条件变化时,外掩体位置变动对日冕仪杂散光的影响。通过对外掩体位置测量及引入杂散光的定量分析,可进一步改进日冕仪设计,降低整体的杂散光水平。
搜索关键词: 日冕 掩体 位置 测量 系统 测量方法
【主权项】:
1.日冕仪外掩体位置测量方法,基于日冕仪外掩体位置测量系统而实现,其特征在于,日冕仪外掩体位置测量系统包括日冕仪,日冕仪的物镜正前方安装有外掩体,外掩体与支撑杆连接,所述支撑杆通过二维平移和二维倾斜调节装置安装在日冕仪镜筒上,且支撑杆在镜筒截面内与镜筒轴垂直;所述测量系统还包括激光回馈干涉系统,激光回馈干涉系统测量光路和参考光路出光侧分别发射测量光和参考光,沿参考光路出光侧设置有参考光路反射镜,沿测量光路出光侧设置有测量光路反射镜;所述测量方法包括日冕仪外掩体位移测量方法,包括以下步骤:调整激光回馈干涉系统的位置,调整参考光路反射镜和测量光路反射镜,使参考光和测量光分别入射到支撑杆的两个侧面上,反射后使参考光和测量光沿原光路返回形成激光回馈;沿测量光入射方向调整支撑杆位置,激光回馈干涉系统测得测量光路长度改变量为Δlx,即外掩体位移变化值为Δlx,每次改变支撑杆位置后,测量日冕仪视场中外掩体边缘衍射光光强,直至外掩体边缘衍射光光强达到极小值;沿参考光入射方向调整支撑杆位置,激光回馈干涉系统测得参考光路长度改变量为Δly,即外掩体位移变化值为‑Δly,每次改变支撑杆位置后,测量日冕仪视场中外掩体边缘衍射光光强,直至外掩体边缘衍射光光强达到极小值。
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