[发明专利]一种高温超导带材用哈氏合金基带的复合表面处理方法有效

专利信息
申请号: 201710050996.0 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN107059108B 公开(公告)日: 2019-02-22
发明(设计)人: 张超;王飞;范立坤;刘凯 申请(专利权)人: 上海材料研究所
主分类号: C25F3/16 分类号: C25F3/16;B24B1/00;B24B29/02
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 褚明伟
地址: 200437*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种高温超导带材用哈氏合金基带的复合表面处理方法,该方法用以降低哈氏合金基带的表面粗糙度,使哈氏合金基带均方根表面粗糙度小于1纳米,该复方法包括两个处理阶段,第一阶段采用机械抛光方法,使哈氏合金基带的表面粗糙度降低至50纳米以下;第二阶段对机械抛光后的合金基带进行电化学抛光处理,使哈氏合金基带的均方根表面粗糙度进一步降至低于1纳米,满足第二代高温超导体对基带表面粗糙度的要求。与现有技术相比,本发明的表面处理方法简单高效,对原始基带的表面粗糙度要求不高,适合哈氏合金基带的批量化抛光生产,具备实现公里级基带连续抛光作业的能力,可为第二代高温超导用合金基带的国产化供应提供解决方案。
搜索关键词: 一种 高温 超导 带材用哈氏 合金 基带 复合 表面 处理 方法
【主权项】:
1.一种高温超导带材用哈氏合金基带的复合表面处理方法,该复合表面处理方法用以降低哈氏合金基带的表面粗糙度,使哈氏合金基带均方根表面粗糙度小于1纳米,其特征在于,该复合表面处理方法包括两个处理阶段,第一阶段采用机械抛光方法,使哈氏合金基带的表面粗糙度降低至50纳米以下;第二阶段对机械抛光后的合金基带进行电化学抛光处理,使哈氏合金基带的均方根表面粗糙度进一步降至低于1纳米,满足第二代高温超导体对基带表面粗糙度的要求;第一阶段的机械抛光方法采用粗抛和精抛两个抛光单元,粗抛单元的抛光轮的旋转方向与哈氏合金基带前进的方向相反,精抛单元的抛光轮的旋转方向与哈氏合金基带前进的方向相同;第二阶段的电化学抛光处理使用的电化学抛光液的成分与重量份为:
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