[发明专利]曝光机

摘要

本发明提供一种曝光机，包括用于承载基板的曝光平台、设于曝光平台两侧的平台导轨、及设于所述平台导轨上的偶数个过滤装置；所述偶数个过滤装置通过在曝光平台两侧形成负压而产生向曝光平台外的气流以将废物排出，与现有技术在曝光室顶棚设置过滤装置而产生向上的气流将废物排出的方式相比，本发明的曝光机，通过在平台导轨上设置过滤装置，产生接近水平的气流而将废物排出，能够有效避免光刻胶产生的挥发物在向上流动过程中凝结在基板上方的光学器件上而降低曝光精度的问题，且过滤效果良好，能够为曝光制程提供良好的曝光环境，进而提高了产品良率。

主权项

1.一种曝光机，其特征在于，包括用于承载基板(500)的曝光平台(110)、设于曝光平台(110)两侧的平台导轨(120)、及设于所述平台导轨(120)上的偶数个过滤装置(160)；每一过滤装置(160)包括过滤腔体(161)，所述过滤腔体(161)面向曝光平台(110)的一侧面上设有进气口(162)，背向曝光平台(110)的一侧面上设有排放口(163)；所述偶数个过滤装置(160)对称分布于所述曝光平台(110)两侧；所述偶数个过滤装置(160)通过在曝光平台(110)两侧形成负压而产生向曝光平台(110)外的气流，从而将废物排出；每一过滤装置(160)还包括设于过滤腔体(161)内的滤芯(164)；每一过滤装置(160)的排放口(163)连接至真空负压管路(170)，从而在曝光平台(110)两侧形成负压；每一过滤装置(160)通过真空负压管路(170)与用于对废物进行集中处理的厂务相连通，从而通过真空负压管路(170)将废物输送到厂务；每一过滤装置(160)中，所述进气口(162)与排放口(163)在过滤腔体(161)的相对两侧面上前后交错设置，所述滤芯(164)在前后方向上对应位于所述进气口(162)与排放口(163)之间。