[发明专利]一种曝光装置有效
| 申请号： | 201710055343.1 | 申请日： | 2017-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN107065445B | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 胡俊艳 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，其包括挡板组件和透镜组件，所述挡板组件设有曝光孔；所述透镜组件设置在所述挡板组件与待曝光基板之间，所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域。该曝光装置可以较高曝光精确度，提升待曝光基板的曝光品质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 装置 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，用于对待曝光基板进行曝光，包括：挡板组件和透镜组件，所述挡板组件设有曝光孔；所述透镜组件设置在所述挡板组件与所述待曝光基板之间，所述透镜组件用于将所述曝光孔的侧边产生的衍射光线会聚在所述待曝光基板的待曝光区域；其特征在于，所述透镜组件置于所述曝光孔的侧边对应的衍射区；所述透镜组件包括沿所述曝光孔的轴向方向间隔设置的第一透镜和第二透镜，所述第一透镜和第二透镜均为凸透镜沿其主光轴切割形成的半透镜结构；所述挡板组件设置在所述第一透镜的焦距上，所述待曝光基板设置在所述第二透镜的焦距上。
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