[发明专利]高分子化合物、负型抗蚀剂组合物、层叠体、图案形成方法及化合物

摘要

本发明提供一种高分子化合物、使用有该高分子化合物的负型抗蚀剂组合物及使用有该负型抗蚀剂组合物的图案形成方法，其中所述高分子化合物使用于实现50nm以下的高分辨率、小LER、且缺陷的产生非常少的负型抗蚀剂组合物中。所述高分子化合物含有以下述通式(1)所示的重复单元。[化学式1]。

主权项

一种高分子化合物，其特征在于，含有以下述通式(1)所示的重复单元，式中，A表示单键、或在链的中间可含有醚性氧原子的碳原子数为1～10的亚烷基；R1表示氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基；R2表示氢原子，卤素原子，碳原子数为2～8的可被卤代的直链状、支链状或环状的酰氧基，碳原子数为1～6的可被卤代的直链状、支链状或环状的烷基，或碳原子数为1～6的可被卤代的直链状、支链状或环状的烷氧基；L表示氢原子或在链的中间可含有醚性氧原子、羰基或羰氧基的碳原子数为1～10的直链状、支链状或环状的脂肪族一价烃基，或可具有取代基的一价芳香环基；f表示1～3的整数；s表示0～2的整数；a为(5+2s‑f)的整数；m表示0或1；Rx、Ry表示氢原子、或以下述(i)或(ii)所示的取代基中的任意一种，Rx、Ry不同时为氢原子；(i)可具有取代基的一价芳香环基；(ii)可被氟原子以外的卤素原子、羟基或烷氧基取代的碳原子数为1～15的烷基或碳原子数为7～15的芳烷基，与结合有Rx、Ry的碳原子直接结合的Rx、Ry中的碳原子未与氢原子结合。