[发明专利]化学气相沉积设备

摘要

本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括基底存放腔室、样品收集腔室、反应腔室、过渡腔室及将基底料带由基底存放腔室运送至样品收集腔室的物料输送装置，基底存放腔室、样品收集腔室、反应腔室和过渡腔室形成密闭的输料通道，反应腔室和过渡腔室位于基底存放腔室和样品收集腔室之间，且反应腔室至少为两个，相邻两个反应腔室通过过渡腔室间隔。物料输送装置包括位于基底存放腔室的第一卷绕传送装置及位于样品收集腔室的第二卷绕传送装置。本申请提供的化学气相沉积设备有效地抑制相邻反应腔之间的反应气体的扩散，使得各个反应腔室能够独立的实现预定的功能。

主权项

一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括基底存放腔室(1)、样品收集腔室(4)、反应腔室(2)、过渡腔室(3)及将基底料带由所述基底存放腔室(1)运送至所述样品收集腔室(4)的物料输送装置，所述基底存放腔室(1)、所述样品收集腔室(4)、所述反应腔室(2)和所述过渡腔室(3)形成密闭的输料通道，所述反应腔室(2)和所述过渡腔室(3)位于所述基底存放腔室(1)和所述样品收集腔室(4)之间，且所述反应腔室(2)至少为两个，相邻两个所述反应腔室(2)通过所述过渡腔室(3)间隔；所述物料输送装置包括位于所述基底存放腔室(1)的第一卷绕传送装置(5)及位于所述样品收集腔室(4)的第二卷绕传送装置(6)。