[发明专利]一种曝光设备及曝光方法有效
| 申请号： | 201710061018.6 | 申请日： | 2017-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN108345179B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 侯宝路;周伟 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光设备及曝光方法，所述曝光设备包括产生光源的光源单元、投影物镜及基底，还包括用于将所述光源分割为曝光光源和补偿光源的第一周期快门和设置于所述投影物镜和基底之间的周期遮光单元，所述第一周期快门对所述曝光光源和补偿光源进行周期性切换；所述曝光方法包括如下步骤：利用所述第一周期快门将所述光源切换为所述曝光光源实现正常曝光工作；再将所述光源切换至所述补偿光源，同时所述周期遮光单元遮挡透过所述投影物镜的光束，所述补偿光源进行非对称像差补偿；重复周期切换所述曝光光源和所述补偿光源。本发明提出的一种曝光设备及曝光方法，能够很好补偿非对称像差，且不引进新的误差源，提高投影物镜成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 补偿光源 曝光光源 曝光设备 投影物镜 曝光 快门 非对称像差 光源切换 遮光单元 基底 周期性切换 光源单元 光源分割 重复周期 误差源 成像 光源 遮挡 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，包括产生光源的光源单元、投影物镜及基底，其特征在于，还包括用于将所述光源分割为曝光光源和补偿光源的第一周期快门和设置于所述投影物镜和基底之间周期性遮挡所述补偿光源的周期遮光单元，所述第一周期快门对所述曝光光源和补偿光源进行周期性切换，实现曝光模式和投影物镜非对称像差补偿模式的周期性进行。
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