[发明专利]基于等离子体的制程机台在审
申请号: | 201710061655.3 | 申请日: | 2017-01-26 |
公开(公告)号: | CN107316796A | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
发明(设计)人: | 孟庆豪;陈智圣;周银铜;詹炽桦;黄琳清;江煜培 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人: | 徐金国 |
地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本揭露提供一种基于等离子体的制程机台,包含外壳与气体分布板。外壳界定出处理室且包含用以接收处理气体的气体入口。气体分布板设置于处理室中且用以在处理室内分布处理气体。气体分布板包含延伸贯穿气体分布板的多个孔洞,且更包含这些孔洞被分组而成的多个区块。这些区块包含第一区块和第二区块。第一区块的孔洞具有第一剖面。第二区块的孔洞具有不同于第一剖面的第二剖面。 | ||
搜索关键词: | 基于 等离子体 机台 | ||
【主权项】:
一种基于等离子体的制程机台,其特征在于,包含:一外壳,界定出一处理室且包含用以接收一处理气体的一气体入口;以及一气体分布板,设置于该处理室中且用以在该处理室内分布该处理气体,其中该气体分布板包含延伸贯穿该气体分布板的多个孔洞,且更包含该些孔洞被分组而成的多个区块,其中该些区块包含一第一区块和一第二区块,且其中该第一区块的该些孔洞具有一第一剖面,且该第二区块的该些孔洞具有不同于该第一剖面的一第二剖面。
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