[发明专利]填充通孔以减少空隙和其它缺陷的方法在审
申请号: | 201710066334.2 | 申请日: | 2017-02-06 |
公开(公告)号: | CN107087353A | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | N·嘉雅拉朱;L·巴斯塔德 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限责任公司 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 陈哲锋,胡嘉倩 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 直流电镀覆方法抑制空隙形成,减少凹陷并且消除节结。所述方法涉及在高电流密度下电镀铜,接着在较低电流密度下电镀以填充通孔。 | ||
搜索关键词: | 填充 减少 空隙 其它 缺陷 方法 | ||
【主权项】:
一种方法,其包含:a)提供具有多个通孔的衬底,包含在所述衬底的表面和所述多个通孔的壁上的无电铜、闪镀铜或其组合的层;b)将所述衬底浸没在包含阳极的铜电镀浴中;以及c)通过包含以下的直流电循环用铜填充所述通孔:施加电流密度持续第一预定时间段,接着施加较低电流密度持续第二预定时间段。
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