[发明专利]一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法

摘要

本发明公开了一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是步骤为：首先用含有无机粒子的高分子涂覆液在模具上制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层，然后用硅胶在具有纳米凹凸结构的减反射涂层上制模，最后待硅胶固化后脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板；涂覆液由二氧化硅粒子与紫外光固化涂覆液混合制成，二氧化硅粒子由粒径较小的和粒径较大的两种二氧化硅粒子按质量配比为1:9～9:1混合组成。采用本发明，制得的能连续制备塑料基材减反射结构的模板经卷对卷工艺能在塑料基材表面连续制备减反射纳米凹凸结构，操作简单、效果稳定，所得产品可用于电子产品的显示面板、太阳能光伏组件等领域，实用性强。

主权项

1.一种能连续制备塑料基材减反射结构的模板的制备方法，其特征是具体步骤为：a、配备模具和含有无机粒子的高分子涂覆液：取环状外套（1）和可以设置在环状外套（1）中、与环状外套（1）同心的柱状内衬（2）作为模具；环状外套（1）和柱状内衬（2）之间形成有一定间隙；按二氧化硅粒子5～20%、紫外光固化涂覆液80～95%的质量百分比取二氧化硅粒子和紫外光固化涂覆液，混合，配制成含有无机粒子的高分子涂覆液，备用；b、制备具有纳米凹凸结构的减反射涂层：将含有无机粒子的高分子涂覆液涂覆于所述模具的环状外套（1）内壁，待含有无机粒子的高分子涂覆液流平形成涂层后，烘干，烘干温度为80～130℃、烘干时间为1～5 min，再经紫外光固化，即在环状外套（1）内壁上制得具有纳米凹凸结构的减反射涂层（3）；c、制模：将柱状内衬（2）置于环状外套（1）中并同心放置，在柱状内衬（2）和环状外套（1）之间的间隙中注入硅胶，静置24小时使硅胶固化，得到与具有纳米凹凸结构的减反射涂层贴合的硅胶；d、脱模：待硅胶固化后，脱模，即制得能连续制备塑料基材减反射结构的模板。