[发明专利]对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模在审
申请号: | 201710073921.4 | 申请日: | 2017-02-10 |
公开(公告)号: | CN106842837A | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 张思凯;汪栋;万冀豫 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司11438 | 代理人: | 阚梓瑄,王卫忠 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模。所述对位标识,包括第一区域,位于所述对位标识的中心区域;以及第二区域,围绕所述第一区域。其中,在所述对位标识的厚度方向上,所述第二区域从所述第一区域凸出。利用根据本发明的对位标识及其形成方法、玻璃基板及半色调掩模,能够防止在对位标识处出现回字形图像,从而使得曝光机能够准确识别对位标识的位置。 | ||
搜索关键词: | 对位 标识 及其 形成 方法 玻璃 色调 | ||
【主权项】:
一种对位标识,包括:第一区域,位于所述对位标识的中心区域;以及第二区域,围绕所述第一区域,其中,在所述对位标识的厚度方向上,所述第二区域从所述第一区域凸出。
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