[发明专利]一种高比表面钽电容器阳极钽箔及其制备方法

摘要

本发明提供了一种高比表面钽电容器阳极钽箔及其制备方法，是以不同厚度的钽片为主体材料，通过用能量高于可以改变钽金属表面结构的能量的激光照射其表面，在钽金属表面非常简单的获得分布均匀的微纳米级晶粒，从而有效地增加表面积。本发明采用的高比表面结构阳极钽箔可以做成任意形状的薄片状、卷绕式等，采用激光处理阳极钽箔，极大的增加表面积，使最终制成的钽电容器的容量会大幅提高，对阳极钽箔直接叠片或卷绕皆满足叠片式或卷绕式设计要求，更适合现代元器件对薄型化、高容量的需求。

主权项

1.一种高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法，其特征在于：所述高比表面钽电容器阳极钽箔，包括钽片层和钽微纳米颗粒层，所述钽片层为片状结构，所述钽微纳米颗粒层一体化形成在所述钽片层的至少一个表面上；所述高比表面钽电容器阳极钽箔的制备方法为：取钽片，用酒精清洗去除钽片表面的油污和灰尘；然后将钽片放在光学平台上，并用夹具定位、夹紧；最后调整激光器参数和光斑直径，控制激光束对钽片表面进行点扫描处理或线扫描处理，即在钽片层表面一体化形成钽微纳米颗粒层；对钽片表面进行点扫描处理时，调整所述激光器的能量范围为15～25w、扫描速度范围为500～1000mm/s、光斑直径为10～30μm；对钽片表面进行线扫描处理时，调整所述激光器的能量范围为25～30w、扫描速度范围为600～1000mm/s、线宽为10～30μm、线间距10～30μm，横扫或竖扫。