[发明专利]光学尼龙无取向膜及其制备工艺

摘要

本发明涉及光学元件技术领域，具体公开了一种光学尼龙无取向膜及其制备工艺，至少包括以下步骤，提供尼龙材料；将尼龙材料进行预热到一定温度，得到热尼龙；和将所述热尼龙经过纵向拉伸工艺；其中，所述纵向拉伸工艺的拉伸倍率为1～3。

主权项

1.一种光学尼龙无取向膜的制备工艺，其特征在于，至少包括以下步骤，提供尼龙材料；将尼龙材料进行预热到拉伸温度，得到热尼龙；和将所述热尼龙经过纵向拉伸工艺；其中，所述纵向拉伸工艺的拉伸倍率为1～3；所述的尼龙材料中还包括磺化聚酰胺；所述磺化聚酰胺的制备方法为：(1)在惰性气体保护下，将氯化钙加入反应器中，然后加入溶剂N‑甲基吡咯烷酮搅拌均匀，100℃下充分溶解；(2)上述反应液降至12℃后，将己二酸、4,4'‑二氨基二苯乙烯‑2,2'‑二磺酸、1,8‑辛二胺、2,6‑二氨基吡啶、亚磷酸三苯酯、三乙胺按照摩尔比为1：1：1.5：0.5：3：5加到上述溶液中于100℃下，聚合10小时，然后将反应液倾倒至甲醇溶液中，将得到的沉淀物洗涤过滤，干燥，得到磺化聚酰胺。