[发明专利]喷射量补偿方法、喷射量补偿设备和喷墨打印系统有效
申请号: | 201710081335.4 | 申请日: | 2017-02-15 |
公开(公告)号: | CN106827814B | 公开(公告)日: | 2018-07-24 |
发明(设计)人: | 王辉锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B41J2/07 | 分类号: | B41J2/07 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 孙之刚;陈岚 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 公开了一种用于制造有机电致发光器件像素的喷墨打印机的喷射量补偿方法。所述喷墨打印机包括多个喷嘴并且被配置成针对相同像素位置执行多个打印过程。下一打印过程的目标喷射量被选择使得其与前一打印过程的实际喷射量的平均值等于预定的理想喷射量。还公开了一种与所述喷墨打印机一起使用的喷射量补偿设备和一种喷墨打印系统。 | ||
搜索关键词: | 喷射 补偿 方法 设备 喷墨 打印 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造有机电致发光器件像素的喷墨打印机的喷射量补偿方法,所述喷墨打印机包括多个喷嘴并且被配置成针对相同像素位置执行多个打印过程,所述方法包括:通过调整用于驱动所述多个喷嘴中被分配用于所述多个打印过程中的第一打印过程的各喷嘴进行喷墨的相应驱动信号来将被分配用于第一打印过程的各喷嘴的相应喷射量校正为落在围绕相应第一目标喷射量的容差范围内;从被分配用于第一打印过程的各喷嘴的校正喷射量导出所述多个喷嘴中被分配用于所述多个打印过程中的第二打印过程的各喷嘴的相应第二目标喷射量,其中被分配用于第二打印过程的各喷嘴中的每个的第二目标喷射量被选择使得该第二目标喷射量与被分配用于第一打印过程的各喷嘴中的对应一个的校正喷射量的平均值等于预定的理想喷射量;以及通过调整用于驱动被分配用于第二打印过程的各喷嘴进行喷墨的相应驱动信号来将被分配用于第二打印过程的各喷嘴的相应喷射量校正为落在围绕相应第二目标喷射量的容差范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710081335.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。