[发明专利]测量方法和测量程序在审

专利信息
申请号: 201710085875.X 申请日: 2017-02-17
公开(公告)号: CN107121084A 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 酒井裕志;后藤智德 申请(专利权)人: 株式会社三丰
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 邸万奎
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了从测量头对目标物体的表面照射光并基于反射光测量形状的方法,特征在于,包括以下步骤设定为适合于测量目标物体的第1区域的测量条件,并对表面以第1扫描范围和第1扫描间距进行测量,得到第1测量结果的步骤;从第1测量结果求表面之中第1区域以外的第2区域的步骤;以及设定为适合于测量第2区域的测量条件,对表面以比第1扫描范围窄的第2扫描范围和比第1扫描间距细的第2扫描间距进行测量,得到第2测量结果的步骤。
搜索关键词: 测量方法 测量 程序
【主权项】:
一种测量方法,是从测量头对目标物体的表面照射光并基于反射光测量形状的方法,其特征在于,包括以下步骤:设定为适合于测量所述目标物体的第1区域的测量条件,对所述表面以第1扫描范围和第1扫描间距进行测量,得到第1测量结果的步骤;从所述第1测量结果求所述表面之中的第2区域的步骤;以及设定为适合于测量所述第2区域的测量条件,对所述表面以所述比第1扫描范围窄的第2扫描范围和比所述第1扫描间距细的第2扫描间距进行测量,得到第2测量结果的步骤。
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