[发明专利]光酸产生单体、自其衍生的聚合物、包括所述聚合物的光致抗蚀剂组合物有效

专利信息
申请号: 201710089884.6 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN107129448B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: E·阿卡德;J·W·萨克莱;J·F·卡梅伦 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: C07C309/12 分类号: C07C309/12;C07C309/17;C07C303/32;C07D333/76;C07D317/34;C07D317/72;C07D409/12;C08F220/28;C08F220/18;C08F222/24;C08F220/22;G03F7/004
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种单体具有以下结构:其中R为包含可聚合碳‑碳双键或碳‑碳三键的有机基团;X和Y在每次出现时独立地为氢或非氢取代基;EWG1和EWG2在每次出现时独立地为拉电子基团;p为0、1、2、3或4;n为1、2、3或4;且M+为有机阳离子。由单体制备的聚合物适用作光致抗蚀剂组合物的组分。
搜索关键词: 产生 单体 衍生 聚合物 包括 光致抗蚀剂 组合
【主权项】:
一种具有以下结构的单体:其中R为包含可聚合碳‑碳双键或碳‑碳三键的有机基团;X和Y在每次出现时独立地为氢或非氢取代基;EWG1和EWG2在每次出现时独立地为拉电子基团;p为0、1、2、3或4,其条件为当EWG1和EWG2各独立地为氟基、三氟甲基或五氟乙基时,p为1、2、3或4;n为1、2、3或4;且M+为有机阳离子。
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