[发明专利]一种基于特征点密度由聚焦堆栈估计深度的方法和装置有效

专利信息
申请号: 201710090688.0 申请日: 2017-02-20
公开(公告)号: CN106875436B 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 邱钧;何建梅;刘畅 申请(专利权)人: 北京信息科技大学
主分类号: G06T7/55 分类号: G06T7/55
代理公司: 北京汇智胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11346 代理人: 石辉
地址: 100192 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于特征点密度由聚焦堆栈估计深度的方法和装置,所述方法包括:提取聚焦堆栈中每个图像的特征点,建立基于特征点密度的聚焦测度;建立引入特征点密度的加权聚焦测度的估计深度的模型:以采用SML聚焦测度为例,建立SML与特征点密度的加权线性混合聚焦测度作为深度估计的目标函数,实现对场景深度的估计和全聚焦图。本发明的方案,建立关于特征点密度的聚焦测度及建立线性加权聚焦测度,并构建基于聚焦测度的深度估计模型,获取场景的深度信息,以实现场景的全聚焦与三维重构,可为现实三维重构提供精确的深度信息并获取全聚焦图像。
搜索关键词: 一种 基于 特征 密度 聚焦 堆栈 估计 深度 方法 装置
【主权项】:
1.一种基于特征点密度由聚焦堆栈估计深度的方法,其特征在于,所述方法包括:提取聚焦堆栈中每个图像的特征点,根据所述每个图像的特征点得到特征点密度的聚焦测度,建立特征点密度的聚焦测度具体为:其中,R(x,y)(d)为像素点(x,y)的特征点密度的聚焦测度,表示落入像素点(x,y)邻域Ω(x,y)内的特征点数,Sd(xm,ym)表示点m在深度d下的图像坐标;利用特征点密度的聚焦测度和已有的聚焦测度,建立线性加权的聚焦测度,根据所述线性加权的聚焦测度得到图像中任意像素点的聚焦测度值;其中:所述已有的聚焦测度具体为改进的拉普拉斯聚焦测度,相应的,所述利用特征点密度的聚焦测度和已有的聚焦测度,建立的线性加权的聚焦测度,具体为其中,表示改进的拉普拉斯聚焦测度,为改进的拉普拉斯算子,Id(x,y)表示在d深度下所成图像,step表示改进的拉普拉斯算子中的步进值,参数N决定计算像素点(x,y)的聚焦测度的窗口大小,α∈[0,1]是平衡聚焦测度算子与特征点测度算子的权重;根据图像中任意像素点的聚焦测度值估计图像中物点的深度。
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