[发明专利]一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用在审
申请号: | 201710101433.X | 申请日: | 2017-02-24 |
公开(公告)号: | CN106905512A | 公开(公告)日: | 2017-06-30 |
发明(设计)人: | 应磊;赵森;郭婷;杨伟;彭俊彪;曹镛 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 何淑珍 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物及其制备方法与应用。本发明的基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物,由于具有较大的共轭长度,所以有较高的荧光量子产率,有利于提高材料的器件效率;同时,该聚合物溶解性比较好,适合进行溶液加工和印刷显示。本发明基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物通过Suzuki聚合反应制备得到。本发明的基于二芳杂环并茚芴的共轭聚合物可用于制备有机发光二极管的发光层。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 二芳杂环 单元 共轭 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种基于二芳杂环并茚芴单元的共轭聚合物,其特征在于,化学结构式如下:式中,Ar1为六元芳杂环;R为芳基、三苯胺、碳原子数1‑20的直链或支链烷基、卤素、氰基、烷氧基或氟代烷氧基,或为碳原子数1‑20的烷氧基;0≤x≤1;聚合度n=1‑300。
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