[发明专利]一种IC载板激光微孔的制作方法在审

专利信息
申请号: 201710107586.5 申请日: 2017-02-27
公开(公告)号: CN108500485A 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 焦云峰 申请(专利权)人: 无锡深南电路有限公司
主分类号: B23K26/384 分类号: B23K26/384;B23K26/18;B23K101/42
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 黄杭飞
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种IC载板激光微孔的制作方法,包括以下步骤:首先对待加工板件贴干膜,并通过曝光显影的方式去除所述待加工板件上需要钻孔区域的干膜,制作出开窗;然后蚀刻掉所述待加工板件上开窗区域的铜层;然后在蚀刻掉开窗区域的铜层后,去除所述待加工板件上的剩余干膜;然后对所述步骤b中蚀刻掉铜层的区域采用CO2钻孔机进行激光钻孔;然后清除所述激光钻孔后的胶渣,并对所述待加工板件进行外层检验。该方法利用铜对CO2几乎不吸收的特性,使用铜面开小窗的方法可以根据需要制作出特定孔径的IC载板,且操作方便。
搜索关键词: 待加工板件 蚀刻 干膜 开窗 铜层 激光微孔 激光钻孔 去除 加工板件 曝光显影 钻孔区域 钻孔机 胶渣 铜面 小窗 制作 吸收 检验
【主权项】:
1.一种IC载板激光微孔的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:a、对待加工板件贴干膜,并去除所述待加工板件上需要钻孔区域的干膜,制作出开窗;b、蚀刻掉所述待加工板件上开窗区域的铜层;c、在蚀刻掉开窗区域的铜层后,去除所述待加工板件上的剩余干膜;d、对所述步骤b中蚀刻掉铜层的区域采用CO2钻孔机进行激光钻孔;e、清除所述激光钻孔后的胶渣,并对所述待加工板件进行外层检验。
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