[发明专利]基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物及其制备方法与应用。该基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物通过将芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩的单体与含Ar结构的硼酸酯单体通过Suzuki聚合反应后，再依次采用苯硼酸和溴苯进行封端反应制得。本发明共轭聚合物具有较好的溶解性，适合进行溶液加工和印刷显示，用于制备有机发光二极管的发光层；基于该聚合物的发光层在制备电致发光器件时不用退火处理，使得制备工艺更简单。

主权项

基于芳杂环并‑2,8‑S,S‑二氧二苯并噻吩单元的共轭聚合物，其特征在于，化学结构式如下：式中，Ar1为芳杂环基团；R1‑R14均选自‑H、‑F、‑Cl、‑Br、‑I、‑D、‑CN、‑NO2、‑CF3、碳原子数1～20的直链烷烃基、碳原子数1～20的烷烃醚基团、碳原子数1‑10的烷烃硫醚基团；0≤x≤1；聚合度n为1‑300；Ar为电子传输单元或者空穴传输单元，Ar为如下结构式中的任意一种：2，7‑取代芴；3，6‑取代芴；2，7‑取代硅芴；3，6‑取代硅芴；2，7‑取代螺芴；3，6‑取代螺芴；2，7‑取代‑9，9‑二烷氧基苯基芴；3，6‑取代‑9，9‑二烷氧基苯基芴；2，7‑取代咔唑；3，6‑取代咔唑；2，6‑取代‑二噻吩并噻咯；2，6‑取代‑二噻吩并环戊二烯；2，5‑取代吡啶；2，6‑取代吡啶；3，5‑取代吡啶；3，5‑双(4‑取代‑苯基)‑4‑基‑1，2，4‑三唑；3，5‑双(4‑取代‑苯基)‑1，2，4‑噁二唑；4，7‑双(5‑取代‑4‑烷基噻吩基)‑2，1，3‑苯并噻二唑；4，7‑双(5‑取代‑4‑烷基噻吩基)2，1，3‑苯并硒二唑；4，7‑取代‑5，6‑烷基‑2，1，3‑苯并噻二唑；4，7‑取代‑5，6‑烷基‑2，1，3‑苯并硒二唑；2，5‑取代‑3，4‑二烷基噻吩；2，5‑取代‑3，4‑二烷基硒吩；5，5‑取代‑4，4‑二烷基‑联噻吩；茚芴；吲哚咔唑；4，9‑取代‑6，7‑烷基‑萘并噻二唑；4，9‑取代‑6,7‑烷基‑萘并硒二唑；萘并茚芴；其中，R为H、芳基、三苯胺、碳原子数1‑20的直链或支链烷基，或为碳原子数1‑20的烷氧基。