[发明专利]显微镜系统有效
| 申请号： | 201710111862.5 | 申请日： | 2011-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN106646841B | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 大木裕史 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B21/06 | 分类号： | G02B21/06;G02B21/36;H05B37/02 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 徐健;段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种显微镜系统，作为用于观测样本的光学显微镜系统，该显微镜系统包括：成像光学系统，其形成透射光或由样本反射的光的图像；照明光源，在样本上照射照明光；照明光学系统，其具有第一空间光调制元件，该第一空间光调制元件改变在成像光学系统的光瞳的共轭位置处的照明光强分布，且将源自照明光源的光线照射在样本上；图像传感器，其探测通过成像光学系统的光线；以及计算部件，其基于由第一空间光调制元件形成的照明光强分布和由图像传感器探测的输出数据来计算适于样本观测的照明光强分布。 | ||
| 搜索关键词： | 照明光 成像光学系统 光调制元件 显微镜系统 样本 第一空间 图像传感器 照明光源 探测 照明光学系统 光学显微镜 共轭位置 光线照射 计算部件 输出数据 样本观测 透射光 光瞳 反射 照射 观测 图像 | ||
【主权项】：
1.一种显微镜系统，该显微镜系统包括：照明光源，向样本照射照明光；成像光学系统，其对所述样本的透射光或反射光进行成像；照明光学系统，其具有第一空间光调制元件，该第一空间光调制元件改变在所述成像光学系统的光瞳的共轭位置处的所述照明光的强度分布，该照明光学系统将源自所述照明光源的光线照射在所述样本上；图像传感器，其探测通过所述成像光学系统的光线；设定部件，所述设定部件对于所述样本的观测图像，设定以区域设定或波段设定为观测条件的参数；以及计算部件，其在每次由所述第一空间光调制元件使所述照明光的强度分布改变时，对在使所述照明光的强度分布改变之后由所述图像传感器探测的输出数据与在使所述照明光的强度分布改变之前由所述图像传感器探测的输出数据进行比较，逐次地求出适于由所述设定部件作为观测条件设定的参数的所述照明光的强度分布。
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