[发明专利]内连线结构及其制作方法有效
| 申请号： | 201710137691.3 | 申请日： | 2017-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108573942B | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 林个惟;林虹妙;林君玲;陈映琏;蔡惠如;苏圣益 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/48 | 分类号： | H01L23/48;H01L21/60 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种内连线结构及其制作方法，该内连线结构包含有一介电层；一导体，埋设在该介电层中，其中该导体的一上表面与该介电层的一上表面齐平；一钴金属盖层，位于该导体的上表面上；以及一氮掺杂钴金属层，位于该钴金属盖层上。 | ||
| 搜索关键词： | 连线 结构 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种内连线结构，包含有：介电层；导体，埋设在该介电层中，其中该导体的一上表面与该介电层的一上表面齐平；钴金属盖层，位于该导体的上表面上；以及氮掺杂钴金属层，位于该钴金属盖层上，其中该氮掺杂钴金属层在其厚度上具有一梯度掺质浓度分布。
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