[发明专利]接触插塞布局的制作方法有效
| 申请号： | 201710137695.1 | 申请日： | 2017-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108573079B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 王嫈乔;童宇诚;何建廷;冯立伟;黄书涵 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;H01L27/02;H01L27/108 |
| 代理公司： | 11105 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陈小雯<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;TW |
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| 摘要： | 本发明公开一种接触插塞布局的制作方法，该制作方法包含有以下步骤：(a)接收多个主动区域图案与多个彼此平行的埋藏式栅极图案，该多个主动区域图案分别与二该埋藏式栅极图案重叠以于各该主动区域图案内形成二个重叠区域以及该二个重叠区域之间的一接触插塞区域；以及(b)分别于该多个接触插塞区域上形成一接触插塞图案，该接触插塞图案包含一平行四边形形状，该平行四边形形状的内角不等于90度，且该多个接触插塞图案分别与各该主动区域内的二该埋藏式栅极图案部分重叠，其中该步骤(a)至该步骤(b)是于一电脑装置内进行。 | ||
| 搜索关键词： | 接触插塞 主动区域 图案 栅极图案 埋藏式 平行四边形形状 重叠区域 制作 彼此平行 电脑装置 内角 | ||
【主权项】：
1.一种接触插塞布局的制作方法，包含有：/n(a)接收多个主动区域图案与彼此平行的多个埋藏式栅极(buried gate)图案，该多个埋藏式栅极图案沿一第一方向延伸，并沿一第二方向排列，且该第一方向与该第二方向彼此垂直，该多个主动区域图案沿不同于第一方向和第二方向的方向延伸，分别与二埋藏式栅极图案重叠以于各主动区域图案内形成二个重叠区域以及该二个重叠区域之间的接触插塞区域；以及/n(b)根据多个接触插塞区域形成多个接触插塞图案，各接触插塞图案包含一平行四边形形状，该平行四边形形状的内角不等于90度，且各个接触插塞图案完全重叠一接触插塞区域并且部分重叠该接触插塞区域两侧的二埋藏式栅极图案；以及/n(c)输出接触插塞图案至一光掩膜上，该光掩膜是用来形成一动态随机存取存储器。/n
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