[发明专利]高分子缝线结构及其使用方法在审

专利信息
申请号: 201710142002.8 申请日: 2017-03-10
公开(公告)号: CN108570737A 公开(公告)日: 2018-09-25
发明(设计)人: 谢克昌;程启正;何扭今 申请(专利权)人: 山华企业股份有限公司
主分类号: D02G3/46 分类号: D02G3/46;D02G3/40
代理公司: 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 代理人: 张雅军;史瞳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高分子缝线结构及其使用方法,该高分子缝线结构适用于一个织物。该高分子缝线结构包含一个缝织于该织物上的第一线段单元,及一个交织该第一线段单元而与该第一线段单元界定出多个接触处的第二线段单元。该第一线段单元包括一个第一缝线,及一个附着于该第一缝线的第一接着层。该第二线段单元包括一个第二缝线,及一个附着于该第二缝线而与该第一接着层于所述接触处上相互接触并接合的第二接着层。该第一接着层及该第二接着层可受催化而在所述接触处上相互接合,使该第一线段单元及该第二线段单元能保持接触以维持结构强度,并可节省定位及黏贴胶片的工序。
搜索关键词: 线段单元 缝线 接着层 接触处 接合 附着 缝织 界定 催化 胶片
【主权项】:
1.一种高分子缝线结构,适用于一个织物,其特征在于:该高分子缝线结构包含一个缝织于该织物上的第一线段单元,及一个交织于该第一线段单元而与该第一线段单元界定出多个接触处的第二线段单元,该第一线段单元包括一个第一缝线,及一个附着于该第一缝线的第一接着层,该第二线段单元包括一个第二缝线,及一个附着于该第二缝线而与该第一线段单元的第一接着层于所述接触处上相互接触并接合的第二接着层。
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