[发明专利]显示基板的制作方法、显示基板和显示装置在审
申请号: | 201710142159.0 | 申请日: | 2017-03-10 |
公开(公告)号: | CN106876411A | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 王小元;方琰;张逵;许志财;邓鸣 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 焦玉恒,王小会 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 提供一种显示基板的制作方法、显示基板和显示装置。该显示基板的制作方法,包括在衬底基板上形成绝缘层,衬底基板包括显示区和周边区;在绝缘层上形成平坦膜;对平坦膜进行图案化工艺,在显示区形成第一厚度的平坦层,在周边区形成第二厚度的平坦层,且在第二厚度的平坦层中形成第一过孔,第二厚度小于第一厚度;对周边区进行刻蚀处理,以使第二厚度的平坦层被减薄或去除,且在绝缘层中形成与第一过孔对应的第二过孔。该显示基板的制作方法,利于减小周边区的平坦层的厚度,利于第一导电单元和第二导电单元之间的连接,并利于第二导电单元与驱动电路连接,接触面积大,接触电阻小,连接性好。 | ||
搜索关键词: | 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种显示基板的制作方法,包括:在衬底基板上形成绝缘层,所述衬底基板包括显示区和周边区;在所述绝缘层上形成平坦膜;对所述平坦膜进行图案化工艺,在所述显示区形成第一厚度的平坦层,在所述周边区形成第二厚度的平坦层,且在所述第二厚度的平坦层中形成第一过孔,所述第二厚度小于所述第一厚度;对所述周边区进行刻蚀处理,以使所述第二厚度的平坦层被减薄或去除,且在所述绝缘层中形成与所述第一过孔对应的第二过孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的