[发明专利]一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法

摘要

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

主权项

1.一种蒸镀源，其特征在于，包括蒸镀坩埚，还包括设置在所述蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个所述蒸镀喷嘴至少排列为一排；所述蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，所述蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通所述蒸镀材料空腔的贯通腔，所述蒸镀喷嘴包括喷头以及与所述喷头固定连接的活动部，所述喷头通过所述贯通腔与所述蒸镀材料空腔相连通，所述活动部设置于所述贯通腔内并可在所述贯通腔内转动，以使得所述喷头在所述活动部的带动下摆动；所述活动部为活动轴，所述活动轴一端设置于所述贯通腔侧壁、另一端固定连接在所述喷头侧壁上，所述活动轴平行于所述蒸镀坩埚出口侧所在的平面。