[发明专利]曝光设备在审
| 申请号： | 201710145195.2 | 申请日： | 2017-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN106647192A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 朱美娜 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,武岑飞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种曝光设备，其包括多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。本发明的曝光设备能够在一个生产节拍周期内使用多块平面曝光光罩对多块基板进行曝光，同时能够全部利用光源提供的曝光光线，从而可以提高曝光效率，同时避免能源的浪费。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，其特征在于，包括：多个平面曝光光罩和一个光源，所述光源与所述平面曝光光罩的平面中心的连线垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各个平面曝光光罩的平面中心的距离相等。
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