[发明专利]光罩结构及COA型阵列基板有效
| 申请号： | 201710146792.7 | 申请日： | 2017-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN106773554B | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 孙涛 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L27/12 |
| 代理公司： | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人： | 林才桂 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光罩结构及COA型阵列基板。所述光罩结构包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)，曝光光线经过所述镂空狭缝(5)会发生衍射，产生传播反向的弯散及能量强度的渐变，配合负性光阻，能够使得最终制得的彩膜层过孔的坡度变缓，从而改善像素电极和金属材质的信号线之间的电连接质量，避免出现显示不良。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 coa 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种光罩结构，其特征在于，用于制作COA型阵列基板内的彩膜层过孔，包括中心遮光部(1)、包围所述中心遮光部(1)并与中心遮光部(1)的外轮廓形状一致的外围遮光部(3)、以及夹在所述外围遮光部(3)与中心遮光部(1)之间的环形的镂空狭缝(5)；使用时，所述中心遮光部(1)、镂空狭缝(5)、及外围遮光部(3)共同构成的图案对应于所述彩膜层过孔的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710146792.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：承载装置和曝光设备
- 下一篇：补偿由光刻镜头散射光导致曝光误差的方法
