[发明专利]一种铜粉添加溶解系统

摘要

本发明公开了一种铜粉添加溶解系统，包括机架和溶解槽，所述机架上安装设置有称量平台，所述称量平台上安装有上料斗，所述上料斗顶部连接有真空上料机，真空上料机的进口端通过上料管与位于机架下方的铜粉储存箱连接，所述上料斗底部通过导料机构与溶解槽右端搅拌区的进料口连接，所述溶解槽右端搅拌区靠近进料口处安装有搅拌驱动装置，搅拌驱动装置输出端与溶解槽内的搅拌叶轮驱动连接，所述溶解槽左端溢流区沿着长度方向分布设置有多个溢流隔板，所述溶解槽右端搅拌区顶部设置有加液口，溶解槽左端底部设置有出液口，本发明结构设计合理，自动化程度高，铜粉称量管理精准，工作稳定性能高，能够精准控制电解药水中铜离子浓度。

主权项

一种铜粉添加溶解系统，包括机架和溶解槽，其特征在于：所述机架上安装设置有称量平台，所述称量平台上安装有上料斗，所述上料斗顶部连接有真空上料机，真空上料机的进口端通过上料管与位于机架下方的铜粉储存箱连接，所述上料斗底部通过导料机构与溶解槽右端搅拌区的进料口连接，所述溶解槽右端搅拌区靠近进料口处安装有搅拌驱动装置，搅拌驱动装置输出端与溶解槽内的搅拌叶轮驱动连接，所述溶解槽左端溢流区沿着长度方向分布设置有多个溢流隔板，所述溶解槽右端搅拌区顶部设置有加液口，溶解槽左端底部设置有出液口。