[发明专利]一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法在审
| 申请号： | 201710150355.2 | 申请日： | 2017-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN106835049A | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | 鲍兆臣;张少波;樊黎虎 | 申请（专利权）人： | 凯盛科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 | 代理人： | 陈俊 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，包括以下步骤在基片架底部设置旋转底座，使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转；对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作；双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜；镀完膜的基片架回转运送到上下片区，对基片架正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作；重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片；安排一名操作工即可对基片架反面进行上下片，无需再绕行到基片架反面，节省了人力的同时，能够保证上下片的速度，降低劳动强度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 玻璃 真空镀膜 下片 方法 | ||
【主权项】：
一种玻璃基片真空镀膜上下片的方法，其特征在于，包括以下步骤：a、在基片架底部设置旋转底座，使基片架能够在旋转底座上水平自由旋转；b、对基片架的正面进行正面玻璃基片的上片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架的反面进行反面玻璃基片的上片操作；c、将上片后的基片架送入双面磁控溅射镀膜机进行正反面镀膜；d、镀完膜的基片架由双面磁控溅射镀膜机出口回转运送到上下片区，对基片架正面的玻璃基片进行下片操作，然后将基片架在旋转底座上旋转180°，再对基片架反面的玻璃基片进行下片操作；e、重复步骤b～d，实现在真空镀膜工艺中对玻璃基片的上下片。
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