[发明专利]光刻装置及方法有效
| 申请号： | 201710154356.4 | 申请日： | 2017-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN107966881B | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 周畅;杨志勇;马琳琳 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种光刻装置及方法，所述光刻装置包括至少两套曝光装置和一套基板装置，其中：所述基板装置包括一基板台和一基板，所述基板台承载所述基板；所述至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在所述基板上方，同时在所述基板上形成两个曝光场，对所述曝光场内基板进行曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻装置，其特征在于，包括至少两套曝光装置和一套基板装置，其中：所述基板装置包括一基板台和一基板，所述基板台承载所述基板；所述至少两套曝光装置沿曝光扫描方向对称分布在所述基板上方，同时在所述基板上形成两个曝光场，对所述曝光场内基板进行曝光；所述基板装置还包括测校基准板，相邻的所述各曝光装置中设置的用于测量所述基板的位置的各基板对准装置通过测量所述测校基准板，实现对所述基板对准装置相对所述基板台位置的校准。
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