[发明专利]铜系金属膜用蚀刻组合物

摘要

本发明提供一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂和两种以上有机酸混合物，上述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9。在蚀刻本发明的液晶显示装置用阵列基板的制造中所使用的铜系金属膜时，即使铜金属的厚度增加，也能够均等地调节纵向及横向蚀刻速度而形成微细图案的铜系金属配线。

主权项

1.一种蚀刻组合物，其作为铜系金属膜用蚀刻组合物，包含过氧化氢、含氟化合物、唑化合物、具有氮原子和羧基的水溶性化合物、磷酸盐化合物、多元醇型表面活性剂及两种以上有机酸混合物，所述两种以上有机酸混合物必须包含柠檬酸，且柠檬酸与其他有机酸的重量比为0.9:1～1:0.9，所述铜系金属膜是包含选自铜膜和铜合金膜中的一种以上膜、以及选自钼膜和钼合金膜中的一种以上膜的多层膜，所述铜膜或铜合金膜的厚度为以上。