[发明专利]一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法

摘要

本发明公开了一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法，其特征包括：(1)制备陶瓷抛光盘，(2)配置碱性抛光液，(3)将氮化铝晶片用石蜡粘结在氧化铝基板上，放置于所制备的抛光盘上进行抛光加工。本方法的抛光原理为使用铁氰化钾作为强氧化剂，使氮化铝的表面被氧化形成氧化膜，再利用陶瓷抛光盘对其表面进行磨削，去除表面氧化层，从而达到抛光的作用。本方法中的陶瓷抛光盘耐腐蚀，硬度高，韧性强，磨削效率高，抛光速率快。采用碱性抛光液，能有效避免加工设备腐蚀，使得加工性能稳定，同时保证得到的氮化铝表面光洁度高，损伤低。

主权项

1.一种采用化学抛光液和陶瓷抛光盘的氮化铝基片抛光方法，其特征在于包含以下步骤：(1)将陶瓷粉料混合，再进行湿法球磨、喷雾造粒、过筛，得到用于成型的成型料，将成型料置于模具中压制成型，得到坯体，并在坯体上制作出花纹，最后将坯体置于烧炉中烧结，待冷却后再进行表面磨平修正，即得到陶瓷抛光盘；所述的陶瓷抛光盘具体制备步骤如下：步骤1：按照如下质量份称取组分：氧化铝粉70~85份、氧化锆粉3~14份、填料3~6份、湿润剂1.5~4份、添加剂0.5~3份、造孔剂1~5份、烧结助剂5~8份；步骤2：将步骤1中所述粉料混合均匀，置于球磨机中，加入溶剂混合15~36小时，得到混合浆料；步骤3：将步骤2中所述混合浆料利用喷雾干燥造粒工艺制得造粒料，并过筛1~2次得到用于成型的成型料，过筛的筛网目数为200~300目；步骤4：将步骤3中所述成型料倒入模具中，采用液压机干压成型，成型压力为100~200Mpa ，保持时间为10~15秒；步骤5：将步骤4中成型后得到的坯体表面制作出圆环形花纹；步骤6：将步骤5中所述坯体置于烧炉中进行烧结，先以2~4℃/分钟的升温速率升温至300~500℃并保温50~70分钟，再以4~6℃/分钟的升温速率升温至900~1100℃并保温50~70分钟，最后1~3℃/分钟的升温速率升温至1200~1400℃并保温80~110分钟，烧结完成后冷却至室温，再进行磨平修正，即得到陶瓷抛光盘；(2)配置以甲胺水溶液作为腐蚀介质，铁氰化钾为氧化剂，添加pH调节剂、表面活性剂、粘度调节剂、缓蚀剂和光亮剂的碱性抛光液；(3)将抛光盘装配于抛光机上，并把氮化铝材料用石蜡粘结在氧化铝基板上，然后置于夹具中，放在步骤（1）得到的陶瓷抛光盘上，抛光盘表面和氮化铝材料表面接触，夹具中心气动加压，一边缓慢滴入步骤（2）得到的碱性抛光液一边抛光加工。