[发明专利]TFT基板的制作方法及TFT基板

摘要

本发明提供一种TFT基板的制作方法及TFT基板。本发明的TFT基板的制作方法，通过对栅极金属层的图案进行设计，使栅极金属层对应形成跨接孔的区域设有反射块，从而在形成跨接孔的过程中，通过反射块对光线进行反射而加强形成跨接孔位置处的曝光强度，在受现有曝光机曝光极限尺寸限制的情况下，仍可保证高PPI显示面板器件中形成跨接孔时曝光充分，进而可实现高PPI显示面板产品的生产。本发明的TFT基板，可保证高PPI显示面板器件中形成跨接孔时曝光充分，进而可实现高PPI显示面板产品的生产。

主权项

1.一种TFT基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：沉积并经图案化工艺形成栅极金属层(14)的步骤，所述栅极金属层(14)包括栅极(141)、及反射块(142)，所述反射块(142)与所述栅极(141)不连接；在所述栅极金属层(14)上形成绝缘层(150)的步骤；在所述绝缘层(150)上涂布形成整面的光刻胶膜(50)，对该层光刻胶膜(50)进行曝光和显影，形成光刻胶层(55)的步骤，对应所述反射块(142)上方的光刻胶膜(50)被曝光并形成第一通孔(551)和第二通孔(552)；以光刻胶层(55)为遮蔽层，通过蚀刻工艺继续对第一通孔(551)和第二通孔(552)进行蚀刻形成第一跨接孔(181)和第二跨接孔(182)的步骤；在形成第一跨接孔(181)和第二跨接孔(182)的步骤中，所述第一跨接孔(181)和第二跨接孔(182)均贯穿所述绝缘层(150)和栅极金属层(14)。