[发明专利]将目标从基板转移系统转移至光刻系统的装置和方法

摘要

本公开涉及一种用于将目标从基板转移系统转移至光刻系统的真空室的装置，目标包括基板或夹箝基板的基板支承结构，装置包括负载锁定室，用于将目标转移至光刻系统的真空室内和光刻系统的真空室外，负载锁定室包括第一壁和第二壁，第一壁中具有提供机器人空间和负载锁定室内部之间的接入的第一通道，第二壁中具有提供负载锁定室的内部和光刻系统的真空室之间的接入的第二通道；和多个操纵机器人，用于转移所述目标，其中多个操纵机器人包括第一操纵机器人，其可在机器人空间内移动，以接入基板转移系统和负载锁定室的第一通道；和第二操纵机器人，其可在负载锁定室内移动，以接入负载锁定室的第一通道和负载锁定室的第二通道。

主权项

一种用于将目标从基板转移系统转移至光刻系统的真空室的装置，所述目标包括基板或基板支承结构，所述基板被夹箝在基板上，所述装置包括：负载锁定室，所述负载锁定室用于将所述目标转移至所述光刻系统的所述真空室内和所述光刻系统的所述真空室外，所述负载锁定室包括第一壁和第二壁，所述第一壁中具有第一通道，所述第一通道提供机器人空间和所述负载锁定室内部之间的接入，所述第二壁中具有第二通道，所述第二通道提供所述负载锁定室的内部和所述光刻系统的所述真空室之间的接入；和多个操纵机器人，所述多个操纵机器人用于转移所述目标,其中所述多个操纵机器人包括：第一操纵机器人，所述第一操纵机器人可在所述机器人空间内移动，以接入所述基板转移系统和所述负载锁定室的所述第一通道；和第二操纵机器人，所述第二操纵机器人可在所述负载锁定室内移动，以接入所述负载锁定室的所述第一通道和所述负载锁定室的所述第二通道，所述负载锁定室的所述第二通道用于接入所述光刻系统的所述真空室。