[发明专利]一种水滑石限域合成席夫碱分子的抗紫外线复合材料、制备方法及应用有效
| 申请号： | 201710168478.9 | 申请日： | 2017-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN107129597B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 林彦军;夏春辉;闫东鹏;李凯涛;杨阳 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C08K9/04 | 分类号： | C08K9/04;C08K3/22;C08L23/12 |
| 代理公司： | 北京太兆天元知识产权代理有限责任公司 11108 | 代理人： | 张洪年 |
| 地址： | 100029 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种水滑石限域合成席夫碱分子的抗紫外线复合材料、制备方法及应用。本发明选用可插层的水滑石为分子反应器，首先插层引入含氨基结构的有机盐，然后加入醛类等中性分子限域合成席夫碱分子，可用于增强PP的抗紫外老化性能，其最优添加量为3wt％。通过水滑石作为分子反应器合成席夫碱，产率可高达100％，这与采用其他有机溶剂，如甲醇、乙醇中回流进行合成席夫碱相比环保且收率高，具有显著的经济效益和推广价值；这种方法制备出的复合材料具有良好的紫外吸收性能，并且利用席夫碱可以顺反结构转换的特点，可以吸收宽波段紫外线，应用在多个领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 滑石 合成 席夫碱 分子 紫外线 复合材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种水滑石限域合成席夫碱分子的抗紫外线复合材料，其特征在于，以可插层的水滑石为分子反应器，通过离子交换法插层含有氨基结构的有机盐，与醛类中性分子在水滑石层间进行限域反应合成席夫碱分子。
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