[发明专利]用于压印光刻的无缝大面积主模板的制造有效
| 申请号： | 201710168787.6 | 申请日： | 2012-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107015433B | 公开（公告）日： | 2021-06-04 |
| 发明（设计）人： | D·J·雷斯尼克;M·N·米勒;F·Y·徐 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;B29D11/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 赵晓光 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于压印光刻的无缝大面积主模板的制造。描述了形成可用于图案化包括例如线栅偏振器(WGP)的大面积光学装置的大面积模板的方法。这些方法提供这种大面积装置的无缝图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 压印 光刻 无缝 大面积 模板 制造 | ||
【主权项】：
一种形成大面积模板的方法，包含：提供基板；通过在该基板上产生多个图案化的场而在该基板上形成包括光栅的图案化的层，其中相邻的场图案之间的任何中断小于10微米，其中所述多个图案化的场被缝接在一起以产生无接缝的图案，并且其中所述产生包括降低该无接缝的图案的边缘的紫外线曝光；以及将该图案转移至该基板内并移除任何残留的图案化的层以在该基板上形成图案化的特征区域。
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