[发明专利]碱性蚀刻液组合物及应用其的蚀刻方法有效

专利信息
申请号: 201710169411.7 申请日: 2017-03-21
公开(公告)号: CN107227462B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 陈雨农;吴光耀;汤慧怡 申请(专利权)人: 达兴材料股份有限公司
主分类号: C23F1/34 分类号: C23F1/34
代理公司: 北京坤瑞律师事务所 11494 代理人: 封新琴
地址: 中国台湾台中市中*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一种碱性蚀刻液组合物,用以蚀刻含铜金属层。前述碱性蚀刻液组合物包含氧化剂、螯合剂与有机胺化合物,且前述有机胺化合物为至少包含碳原子与氮原子的化合物。藉此,本发明所提供的碱性蚀刻液组合物具有优异的图案化能力,可达到良好的蚀刻效果。
搜索关键词: 碱性 蚀刻 组合 应用 方法
【主权项】:
一种碱性蚀刻液组合物,用以蚀刻含铜金属层,该碱性蚀刻液组合物包含:氧化剂;螯合剂;以及有机胺化合物,至少包含碳原子与氮原子。
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