[发明专利]碱性蚀刻液组合物及应用其的蚀刻方法有效
申请号: | 201710169411.7 | 申请日: | 2017-03-21 |
公开(公告)号: | CN107227462B | 公开(公告)日: | 2021-03-09 |
发明(设计)人: | 陈雨农;吴光耀;汤慧怡 | 申请(专利权)人: | 达兴材料股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/34 | 分类号: | C23F1/34 |
代理公司: | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人: | 封新琴 |
地址: | 中国台湾台中市中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种碱性蚀刻液组合物,用以蚀刻含铜金属层。前述碱性蚀刻液组合物包含氧化剂、螯合剂与有机胺化合物,且前述有机胺化合物为至少包含碳原子与氮原子的化合物。藉此,本发明所提供的碱性蚀刻液组合物具有优异的图案化能力,可达到良好的蚀刻效果。 | ||
搜索关键词: | 碱性 蚀刻 组合 应用 方法 | ||
【主权项】:
一种碱性蚀刻液组合物,用以蚀刻含铜金属层,该碱性蚀刻液组合物包含:氧化剂;螯合剂;以及有机胺化合物,至少包含碳原子与氮原子。
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