[发明专利]对靶面光强分布进行匀滑的方法及其装置在审
| 申请号： | 201710175131.7 | 申请日： | 2017-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN106908956A | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 郑天然;张颖;耿远超;黄晚晴;刘兰琴;孙喜博;王文义;李平;张锐;粟敬钦 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)11369 | 代理人： | 郑健 |
| 地址： | 621900 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种对靶面光强分布进行匀滑的方法，包括通过光强调制器及连续相位板对经透镜出射在靶面上的激光束，进行光强分布匀滑调整，以在靶面上构成整块的匀滑焦斑分布。本发明提供一种束匀滑方法，通过调制主激光的光强分布和位相分布，在靶面上获得一个均匀的焦斑靶面光强分布，以满足实际的需要，具有更好的适应性和稳定性。本发明还提供一种对靶面光强分布进行匀滑的装置，其与现有技术相比，大幅降低了靶面光场分布的对比度与不均匀度，并且不依赖于时域匀滑技术，可获得具有不同几何轮廓的靶面均匀光场。 | ||
| 搜索关键词： | 靶面光强 分布 进行 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种对靶面光强分布进行匀滑的方法，其特征在于，包括：通过光强调制器及连续相位板对经透镜出射在靶面上的激光束，进行光强分布匀滑调整，以在靶面上构成整块的匀滑焦斑分布。
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