[发明专利]一种掩膜版、曝光方法及装置

摘要

本发明公开了一种掩膜版、曝光方法及装置。该掩膜版上包括掩模图形区域，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第二右标记和第三右标记；且所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记。本发明实施例所述方案，通过设置图形标记，监控图形标记对应的光刻胶图形从而监控遮光挡板的位置是否异常来判断曝光是否正确。

主权项

1.一种掩膜版，所述掩膜版上包括掩模图形区域，其特征在于，还包括：设置于所述掩模图形区域周围的图形标记，所述图形标记包括第一组和第二组，分别设置于所述掩模图形区域相对的两侧，所述第一组包括第一左标记、第二左标记和第三左标记，所述第二组包括第一右标记、第二右标记和第三右标记，所述第二左标记大于第三右标记，所述第二右标记大于第三左标记，各图形标记的位置满足：/n所述第二左标记沿第一方向平移到所述第三右标记所在位置时，完全覆盖所述第三右标记，所述第二右标记沿所述第一方向平移到所述第三左标记所在位置时，完全覆盖所述第三左标记，且第一方向上，所述第三左标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二左标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三右标记与所述掩模图形区域的距离大于所述第二右标记与所述掩模图形区域的距离，所述第三左标记与所述第二左标记的距离等于所述第三右标记与所述第二右标记的距离；/n所述第二左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一左标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离；/n所述第二右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离大于所述第一右标记与所述掩模图形区域在所述第一方向上的距离；/n所述第一左标记和第一右标记对应的曝光位置位于当前曝光的小板对应的遮光挡板覆盖当前曝光的小板时的正常覆盖范围之内；/n所述第一方向为水平方向或垂直方向。/n