[发明专利]彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板有效
申请号: | 201710184697.6 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN106707609B | 公开(公告)日: | 2019-09-03 |
发明(设计)人: | 殷瑞;陆相晚;马健;余娅;钟国强 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 滕一斌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种彩膜基板的制造方法、彩膜基板和显示面板,属于显示技术领域。所述方法包括:在衬底基板上形成色阻层;在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层,所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化;以所述预设光线照射所述转化层,使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构,所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。本发明通过在衬底基板上形成转化层,再以预设光线将转化层转化为BM图案和平坦层,而无需分两次形成BM图案和平坦层。解决了相关中制造彩膜基板的方法较为复杂的问题。达到了简化彩膜基板的制造方法的效果。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 制造 方法 显示 面板 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制造方法,其特征在于,所述方法包括:在衬底基板上形成色阻层;在形成有所述色阻层的衬底基板上形成转化层,所述转化层的厚度大于所述色阻层的厚度且所述转化层能够在预设光线照射下发生色彩转化,所述转化层由在黑矩阵胶中添加光催化剂或不透明的感光材料形成,或者,所述转化层由在透明的平坦层中加入光催化剂或透明的感光材料制成;以所述预设光线照射所述转化层,使所述转化层转化为由黑矩阵BM图案和平坦层构成的两层结构,所述BM图案位于所述转化层靠近所述衬底基板的一侧。
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