[发明专利]一种射流抛光自清洗装置在审

专利信息
申请号: 201710185423.9 申请日: 2017-03-25
公开(公告)号: CN106863143A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 徐学锋;郭团辉;袁洋 申请(专利权)人: 北京林业大学
主分类号: B24C3/02 分类号: B24C3/02;B24C9/00;B08B3/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及抛光机技术领域,公开了一种射流抛光自清洗装置,包括溶液存储罐、隔膜泵、收集箱、管路、磨料射流喷头、去离子水喷头、二位三通阀、清洗压力泵和去离子水存储罐;所述溶液存储罐内盛放磨料射流溶液,收集箱设置在溶液存储罐上方;工件设置在收集箱内,并与收集箱的入口位置相对应,所述收集箱的出口通过二位三通阀与溶液存储罐连通;所述隔膜泵也与溶液存储罐连通,并通过管路连接磨料射流喷头;所述去离子水存储罐内盛放去离子水,所述清洗压力泵与去离子水存储罐连通,也通过管路连接去离子水喷头。本发明有效地解决了实验后磨料颗粒沉积在工件上影响产品质量的问题,而且装置整体结构简单、成本低、清洗效果好且操作简便。
搜索关键词: 一种 射流 抛光 清洗 装置
【主权项】:
一种射流抛光自清洗装置,其特征在于:包括溶液存储罐(2)、隔膜泵(3)、收集箱(7)、管路、磨料射流喷头(8)、去离子水喷头(12)、二位三通阀(13)、清洗压力泵(14)和去离子水存储罐(16);所述溶液存储罐(2)内盛放磨料射流溶液,收集箱(7)设置在溶液存储罐(2)上方;工件(5)设置在收集箱(7)内,并与收集箱(7)的入口位置相对应,所述收集箱(7)的出口通过二位三通阀(13)与溶液存储罐(2)连通;所述隔膜泵(3)也与溶液存储罐(2)连通,并通过管路连接磨料射流喷头(8);所述去离子水存储罐(16)内盛放去离子水,所述清洗压力泵(14)与去离子水存储罐(16)连通,也通过管路连接去离子水喷头(12);所述去离子水喷头(12)位于磨料射流喷头(8)一侧,两者分别喷射去离子水和磨料射流溶液并作用在工件(5)上。
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